PVD-proces
Van Wikipedia
PVD (Physical Vapor Deposition) is het fysisch aanbrengen van een stof door dampafzetting.
Inhoud |
[bewerk] Onderverdeling
Het opdampproces kan zo worden onderverdeeld:
- Bij gereduceerde atmosferische druk:
- PVD (Physical Vapor Deposition)
- Sputteren (ionplating/ionenimplantatie): In een plasma wordt een potentiaalverschil gecreëerd waardoor het spettert op het substraatoppervlak.
- PLD (Pulsed laser deposition): Een pulserende laser dient als energiebron.
- Bij normale druk:
- Thin-Film Deposition (dunne laag afzetting): Opdampproces waarbij, net als met rijp, materiaal op een substraat (ondergrond) aangroeit.
[bewerk] Werkingsprincipe
Op het al dan niet verwarmde substraat wordt als gevolg van een fysische reactie, waarbij een materiaal overgaat van de vaste naar de damptoestand, opgedampt of neergeslagen.
[bewerk] Toepassingen
- Coaten van elektrisch geleidende, elektrisch isolerende, reflecterende, lichtdoorlatende, slijtvaste en decoratieve lagen op allerlei voorwerpen en materialen (badkamerkranen, wedstrijdbekers, kunststof en glas).
- CD en DVD.
