Fizyczne osadzanie z fazy gazowej
Z Wikipedii
Należy w nim poprawić: Opisano na czym ta metoda polega, ale brakuje podstawowej informacji. Co to jest, do czego służy i jakie ma zastosowania..
Więcej informacji co należy poprawić, być może znajdziesz na odpowiedniej stronie. W pracy nad artykułem należy korzystać z zaleceń edycyjnych. Po naprawieniu wszystkich błędów można usunąć tę wiadomość.
Możesz także przejrzeć pełną listę stron wymagających dopracowania.
Fizyczne osadzanie z fazy gazowej (ang. Physical Vapour Deposition) – metoda polegająca na odparowaniu targetu na skutek działania ciepła lub bombardowania jonami. Jednocześnie zostaje wprowadzony gaz nośny umożliwiający przenoszenie par targetu na przedmiot ulepszany. Proces PVD przebiega w warunkach wysokiej próżni w temperaturach od 150 do 500°C.
