Rentgenolitografia
Z Wikipedii
Rentgenolitografia jest to odmiana procesu litografii wykorzystywanej w technice mikroelektronicznej np. przy produkcji procesorów. Polega ona na użyciu fal o długości od λ=0,4 do 1 nm czyli promieni rentgenowskich.
[edytuj] Maski
Na podłoża masek do rentgenolitografii stosuje się cienkie membrany krzemowe jak również takie materiały jak Ti, SiC, Mylar, polimidy oraz inne, natomiast jako materiał pochłaniający promieniowanie złoto
[edytuj] Zalety
Podstawową zaletą jest to że dzięki stosowaniu promieni rentgenowskich czyli długości fali mniejszej ok 800 razy od fal stosowanych klasycznej fotoligrafii, można uzyskać większą rozdzielczość, a co za tym idzie mniejszy wymiar charakterystyczny przygotowywanego układu mikroelektronicznego. Zaletami są też stosunkowo krótki czas naświetlania oraz mała wrażliwość na ewentualne pyłki pomiędzy emulsjami maski i płtki
[edytuj] Wady
Wytwarzanie masek do rentgenolitografii jest skomplikowanym i wieloetapowym procesem. Poza tym maski są wykonywane ze pomocą innej metody litografii - najczęściej elektronolitografii. Kolejną wadą jest to, że promienie rentenowskie nie dają się załamywać ani odbijać, czego konsekwencją jest to że mamy do czynienia z wiązką rozbieżną co powoduje błędy geometryczne.
