Dampfstrahlprozess
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Beim Dampfstrahlprozess wird eine Flüssigkeit, beispielsweise Wasser, zum Sieden gebracht. Dies geschieht in einem geschlossenen Gefäss mit einer Öffnung, die den Dampf nur dann entweichen lässt, wenn im inneren des Gefässes ein ausreichender Überdruck herrscht (Ventil). Der Dampf entweicht mit hoher Geschwindigkeit aus der Öffnung und streicht dabei über die Öffnung eines anderen Gefässes. Dadurch werden Gaspartikel des zweiten Gefässes wie bei der Wasserstrahlpumpe mitgerissen und es entsteht ein Unterdruck im diesem Gefäss. Ist dieses Gefäss mit einer Kühlflüssigkeit - beispielsweise Wasser - gefüllt, so fängt die Flüssigkeit bei einem bestimmten Unterdruck schon bei Raumtemperatur an zu sieden. Die für das Sieden benötigte Energie wird der Umgebung entzogen (Verdampfungsenthalpie).
