Bild:Leiterbahn ausfallort elektromigration03.jpg

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Bild:Leiterbahn ausfallort elektromigration03.jpg

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Leiterbahn_ausfallort_elektromigration03.jpg‎ (512 × 512 Pixel, Dateigröße: 74 KB, MIME-Typ: image/jpeg)

Beschreibung: Aufnahme eines Ausfallortes verursacht durch Elektromigration in einer Kupferleiterbahn unter dem Rasterelektronenmikroskop. Die Passivierung wurde vorher durch Reactive Ion Etching (RIE) und Fluorwasserstoffsäure (HF) entfernt. Die Ätzprozesse sind dabei nicht erprobt gewesen und beruhen auf Versuchen das best mögliche Resultat zu erlangen.
Quelle: Mit dem Rasterelektronenmikroskop aufgenommen
Fotograf oder Zeichner: Patrick-Emil Zörner
Andere Versionen: keine bekannt!
Lizenzstatus: GNU FDL oder Public Domain

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