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드라이 에칭(영어: Dry etching)은 미세가공에 있어서, 웨트 에칭에서 사용되는 화학 약품을 사용하지 않고 기체 플라즈마에 의한 반응을 이용한 에칭 공정을 의미한다. 건식 식각 (한자: 乾式 蝕刻)이라고도 한다.
분류: 반도체