Chemical vapor deposition
Da Wikipedia, l'enciclopedia libera.
Chemical vapour deposition identifica una tecnica di deposizione che prevede reagenti in fase gassosa che reagiscono alla superficie del substrato a formare un deposito solido. La tecnica permette di crescere sia strati uniformi che depositi "a isole", o una via di mezzo, a seconda dei parametri di deposizione (natura dei precursori, del substrato, temperatura di reazione, ecc...).