集束イオンビーム
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集束イオンビーム(FIB,Focused Ion Beam)は、イオンを電界で加速したビームを細く絞ったものである。 通常、イオンには、ガリウム(Ga)が用いられる。集束イオンビームは、エッチング、蒸着、観察などの用途に用いられる。
[編集] エッチング
イオンビームにより試料表面の原子をはじきとばすことによって試料を削ることができる。イオンビームは数100nmから数nmまで絞ることができるので、ナノ領域での加工が可能である。
[編集] 蒸着
集束イオンビームによる蒸着の代表的なものに、直接蒸着法がある。 直接蒸着法はCu,Al,Auなどの金属を低エネルギーのイオンビームにして、試料に蒸着させる蒸着法である。半導体の金属配線などに応用されている。
[編集] 観察
集束イオンビームを用いてSIM(Scanning Ion Microscope)像を観測することができる。SIMとは、イオンビームを試料に照射させたときに発生する、2次電子を観測することにより試料表面の様子を観測する方法である。集束イオンビームを用いてエッチングをした試料を、同じ装置でSIM像を観測するといったことができる。
